NexWafe ist ein 2015 als Ausgründung des Fraunhofer-Instituts für Solare Energiesysteme ISE entstandenes Unternehmen, das eine neue Fertigungstechnologie für monokristalline Siliziumwafer entwickelt und skaliert. Im Mittelpunkt steht der proprietäre EpiNex-Prozess, ein Gas-to-Wafer-Epitaxieverfahren, bei dem Silizium direkt auf wiederverwendbaren Substraten abgeschieden wird. Da der konventionelle Sägeschritt entfällt, entsteht kein Schneidabfall. Das Verfahren soll vollständig mit bestehenden Solarzellen-Produktionslinien kompatibel sein.
Gegenüber konventionellen Prozessen beansprucht NexWafe einen um 40 % reduzierten Energieverbrauch, 75 % niedrigere CO₂-Emissionen sowie die Eliminierung von annähernd der Hälfte des anfallenden Fertigungsabfalls. In Zusammenarbeit mit dem Schweizer Forschungsinstitut CSEM wurden Wirkungsgrade von 24,4 % für Heteroübergang-Solarzellen und 28,9 % für Perowskit-Silizium-Tandemzellen nachgewiesen.
Die Technologie adressiert mehrere Marktsegmente: terrestrische Photovoltaik, fahrzeugintegrierte Solarmodule sowie Satellitenanwendungen im niedrigen Erdorbit (LEO). NexWafe positioniert sich dabei auch als Beitrag zur europäischen technologischen Souveränität in der Solarwafer-Fertigung, einem Segment, das gegenwärtig von asiatischen Anbietern dominiert wird.
Das Unternehmen pflegt eine enge Verbindung zur angewandten Forschung – sowohl durch seine institutionelle Herkunft aus dem Fraunhofer ISE als auch durch laufende Kooperationen mit Institutionen wie CSEM. Der aktuelle Schwerpunkt liegt auf der Skalierung des Epitaxieprozesses zur kommerziellen Produktion.
