mi2-factory entwickelt Energy-Filtered Ion Implantation (EFII©), eine Technologie zur Dotierung von Siliziumkarbid-Halbleitern, und das Produktionssystem EFITRON© für die industrielle Herstellung von SiC-Leistungshalbleitern. Das Unternehmen wurde 2016 als Ausgründung der Ernst Abbe Hochschule Jena gegründet und hat seinen Sitz in Jena.
Die EFII©-Technologie wandelt einen monoenergetischen Ionenstrahl in ein kontinuierliches Energiespektrum um und ermöglicht so tiefenverteilte und hochhomogene Dotierung mit hoher Genauigkeit über Wafer hinweg. mi2-factory passt die Technologie dabei an spezifische Kundenanwendungen an und zielt darauf ab, die Ausbeuten zu erhöhen und neue SiC-Bauelementearchitekturen zu ermöglichen.
Das Unternehmen positioniert sich als Schnittstelle zwischen Forschung und industrieller Fertigung und unterstützt Anwendungen in den Bereichen Windkraft, Photovoltaik, Elektromobilität und Stromnetze. mi2-factory beteiligt sich an europäischen IPCEI-Programmen zur Beschleunigung von Forschung und Fertigung und verfolgt aktiv die Entwicklung von Schutzrechten. Ein multidisziplinäres Team unter der Leitung von Prof. Dr. Michael Rüb arbeitet nach ISO-Qualitätsstandards.
