NextGO Epi ist ein Berliner Halbleitermaterialunternehmen, das sich auf Galliumoxid-Epitaxialwafer (Ga2O3) für die Leistungselektronik spezialisiert. Das Unternehmen entwickelt und produziert hochwertige Ga2O3-Epiwafer mit eigenständiger Metal-Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD)-Technologie und positioniert diese als leistungsfähiger als etablierte Alternativen wie Siliziumkarbid (SiC) oder Galliumnitrid (GaN).
Die Produktion nutzt fortgeschrittene Prozessüberwachung und künstliche Intelligenz zur Optimierung der Epitaxiequalität. Tiefenlern-Algorithmen unterstützen sowohl die Prozesssteuerung als auch die automatisierte Qualitätskontrolle. Die Herstellung ermöglicht eine Skalierung von Wafern bis zu vier Zoll Durchmesser mit präziser Kontrolle von Wachstumsrate, Dotierung, optischen Eigenschaften und Legierungskonzentration während der Produktion.
NextGO Epi zielt auf Anwendungen in der Leistungselektronik und verwandten Hochleistungsanwendungen ab, wo kompaktere, effizientere und zuverlässigere elektronische Systeme erforderlich sind.
